Nowa metoda oczyszczania** - szczególnie skuteczna do usuwania zanieczyszczeń węgla, tlenu i siarki.

Specyfikacja

Wyniki analizy spektroskopii SSMS (Spark Source Mass Spectrometry) [ppm]:

• Li < 0.02
• Na ≈ 0.1 ±  0.05
• P < 0.03
• K ≈ 0.1 ± 0.05
• Fe ≈ 0.1 ± 0.05
• B < 0.02
• Al ≈  0.25 ± 0.05
• S ≈ 0.07 ± 0.03
• Ca ≈ 0.1 ± 0.05
• Cu < 0.05
• F < 0.03
• Si ≈  0.2 ± 0.1
• Cl < 0.05
• Mn < 0.05
• Zn ≈ 0.2 ± 0.8

Zastosowania

Dla MBE i innych technologii półprzewodnikowych.

Kawałki ≈ płytki (10 x 20, 10 x 10, 10 x 5, …) mm² o grubości 1-2 mm wycięte z większego kawałka

(zobacz zdjęcie)               

Sztabki  Φ 10 - 10÷25  mm długości (zdjęcie)

Φ 15, Φ 20 mm i Φ 25mm, 20÷30  mm długości

(zobacz zdjęcie)

Targety Φ = 25,4mm (1 cal)

3÷10  mm grubości (zdjęcie)

Φ = 50,8mm (2 cale), 1,0÷1,6 mm grubości

(zobacz zdjęcie)

Wszystkie produkty pakowane próżniowo w szklanej ampułce aby zapobiec utlenieniu.