Aktualności
Fizyka przed Wyzwaniami Cywlizacyjnymi

17 stycznia 2019,
Instytut Fizyki PAN
CTT IFPAN
Centrum Transferu Technologii
Instytutu Fizyki PAN
Usługi technologiczne - Wygrzewanie RTP

Opis

Układ Rapid Thermal Process System AccuThermo AW-610 pozwala na precyzyjne wygrzewanie próbek w temperaturze nawet 1200°C z niezwykle dokładną kontrolą temperatury w różnych otoczeniach gazowych, takich jak tlen, argon czy azot.

 

Parametry

  • Maksymalna temperatura: 1200°C
  • Dostępne otoczenia gazowe z regulowanym przepływem gazu: argon, azot, tlen.
  • Maksymalna wzrost temperatury: 100°C/s
  • Maksymalna wielkość średnicy podłoża: 4 cale
  • Stablizacja temperatury wygrzewania na poziomie
    1°C

 

Zastosowania

Procesy wygrzewania są niezwykle istotnym etapem w przygotowywaniu różnego typu struktur elektronicznych i optoelektronicznych, w trakcie których właściwości poszczególnych elementów mogą być znacząco modyfikowane, np. poprzez dyfuzje domieszek czy rekrystalizację. Procesy wygrzewania RTP mają również zastosowania w przygotowywaniu kontaktów elektrycznych do struktur półprzewodnikowych, czy w przygotowywaniu podłóż przed różnego typu procesami wzrostu kryształów, warstw i nanostruktur.

Rapid Thermal Process System AccuThermo AW-610

Wykres temperatury wygrzewania i przypływu gazu w funkcji czasu.


Osoby do kontaktu: prof. Marek Godlewski, e-mail: godlew@ifpan.edu.pl, tel: (+48) 22 116 32 57
Instytut Fizyki Polskiej Akademii Nauk, Aleja Lotników 32/46, 02-668 Warszawa
tel.: (+48) 22 843 70 01 | fax: (+48) 22 843 09 26 | www.ifpan.edu.pl
NIP: 525-000-92-75, Regon: 000326061